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南京科捷分析仪器有限公司

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无掩膜光刻
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产品: 浏览次数:172无掩膜光刻 
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最后更新: 2023-03-27 11:08
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Reshaping precision.
作为已被工业界认可的Nanoscribe公司推出的Quantum X平台的二代加工系统,Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统在3D微纳加工领域拥有惊人的高精度,比肩于Nanoscribe公司在表面结构应用上突破性的双光子灰度光刻(2GL ?)。全新的Quantum X shape的高精度有赖于其z高能力的体素调制比和超精细处理网格,从而实现亚体素的尺寸控制。此外,受益于双光子灰度光刻对体素的微调,该系统在表面微结构的制作上可达到超光滑,同时保持高精度的形状控制。
Reshaping output.
Quantum X shape双光子无掩膜光刻系统不仅是应用于生物医学、微光学、MEMS、微流道、表面工程学及其他很多领域中器件的快速原型制作的理想工具,同时也成为基于晶圆的小结构单元的批量生产的简易工具。
Reshaping usability.
通过系统集成触控屏控制打印文件来大大提高实用性。通过系统自带的nanoConnectX软件来进行打印文件的远程监控及多用户的使用配置,实现推动工业标准化及基于晶圆批量效率生产。
无掩膜光刻https://www.chem17.com/st425611/product_36502779.html
https://www.chem17.com/st425611/erlist_1992288.html


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